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等离子体蚀刻及其在大规模集成电路制造中的应用
“十三五”国家重点图书,作者团队在*半导体工厂工作多年,掌握业界领先的制造工艺
作者:张海洋 等出版社:清华大学出版社出版时间:2018年02月
开 本:16开
纸 张:胶版纸
包 装:平装-胶订
是否套装:否
国际标准书号ISBN:9787302489597
丛书名:高端集成电路制造工艺丛书
所属分类:
图书>工业技术>电子 通信>一般性问题
《等离子体蚀刻及其在大规模集成电路制造中的应用》 作者:张海洋 电子书(pdf+word+epub+mobi+azw3版本)
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集成电路产业是信息技术产业的核心,是支撑经济社会发展和保障国家安全的战略性、基础性和先导性产业。等离子体蚀刻是集成电路制造业核心工艺技术之一,在集成电路的诸多领域,扮演着不可或缺的重要角色。过去近半个世纪蚀刻技术栉风沐雨,已从简单的各向同性灰化发展到离子能量分布/电子能量分布级的精密控制技术。张海洋等作者有着深厚的学术根基以及丰富的产业经验,其带领的团队是多年来在*半导体工厂一线工作的科研人员,掌握了业界领先的制造工艺。他们处理实际问题的经验以及从产业出发的独特技术视角,将给读者带来启发和帮助。本书理论与实际相结合,紧跟国际技术前沿,填补国内外相关图书空白。本书内容基于已经公开发表的文献以及蚀刻团队对等离子体蚀刻在集成电路体制造应用的全面深刻理解。希望本书对于等离子体蚀刻在高端半导体制造中的研发和应用能够管窥一斑,也希望它能成为有意愿致力于半导体高端制造等离子体蚀刻工艺应用的工程人员的参考书籍。
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